Intel a annoncé aujourd'hui la mise au point des premiers "photomasks" standardisés pour l'utilisation de la lithographie Ultraviolet (EUV) qui permettra de mettre au point des Processeurs fabriqués avec une précision de 70 nanomètres alors que les processeurs actuels sont fabriqués avec une précision de 180 nanomètres.
Intel a annoncé que cette technologie EUV devrait succéder à l'actuelle technologie DUV (Deep Ultraviolet) et permettra de fabriquer des processeurs cadencés à plus de 10 Ghz entre 2005 et 2006. Finalement la barrière de 10 Ghz n'est plus si loin ...
