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Ce n'est une surprise pour personne, lorsqu'on s'appelle Intel ou AMD, le mieux est de réfléchir à long terme, très long terme... quitte à évoquer des technologies avec une décennie d'avance. Chez Intel, on parle ainsi dès maintenant, en 2019, de la gravure en 1,4 nm. Les recherches pour cette dernière ne devraient pourtant pas se concrétiser avant 2029.
Le manque de processeurs 10 nm et la difficulté à faire entrer de plain-pied ce procédé de gravure dans le monde desktop n'empêche pas Intel d'avoir la tête dans les étoiles. Alors que le fondeur californien évoque depuis quelques mois, et sans fausse pudeur ses projets pour les nodes 7 nm et 5 nm, voilà qu'un plan de route en fuite nous éclaire sur les projets du groupe pour les 10 prochaines années. Le procédé de gravure en 1,4 nm y est d'ores et déjà mentionné... Mais pour un début de recherche en 2029. Le temps pour Intel d'égrainer ses autres nodes et de capitaliser tout de même un peu sur le 10 nm, qui profitera d'au moins deux affinages (10 nm ++ et 10 nm +++).
Un nouveau procédé tous les deux à trois ans, et la loi de Moore respectée
Dans ses derniers résultats financiers, Intel (ou plutôt Bob Swan, son patron), assurait vouloir revenir à un rythme de changement technologique complet tous les deux à trois ans. Si l'on en croit la roadmap fuitée cette semaine (mais issue d'une présentation tenue par Intel en septembre dernier), le groupe s'en tient à ses déclarations, avec le 10 nm en 2019, les débuts du 7 nm dès 2021 et ceux du node 5 nm en 2023. Jusqu'ici rien de nouveau par rapport aux plans d'Intel annoncés il y a quelques semaines.On apprend par contre de ce plan de route que le développement des procédés en 3 nm et 2 nm débute actuellement et que la recherche pour le node 1,4 nm serait entamée à l'horizon 2029, date d'arrivée des premières puces 3 nm sur le marché si l'on en croit Intel. Une estimation qui pourrait toutefois être reconsidérée en cas de retard de la gravure en 7 nm, attendue pour sa part sur le dernier trimestre 2021.
Pas de détails concernant les types de gravure employés
Si Intel indique que chaque nouveau node profitera de nouvelles fonctionnalités et d'un rapport performances / prix avantageux, aucun détail probant n'est donné quant aux types de technologies utilisées pour la gravure de ces différentes générations. Selon toute évidence, les bleus compteront sur la gravure par EUV (Lithographie extrême ultraviolet) pour le 7 nm et les raffinements à venir du 10 nm.Le 5 nm devrait pour sa part reposer sur un protocole FinFET tri-gate, tandis que la lithographie "high-NA EUV" pourrait aussi être mise à contribution pour graver ces puces en 5 nm.
Source : Tom's Hardware
